ルネサス、フィン構造のフラッシュメモリーセル開発

 ルネサスエレクトロニクスは、回路線幅が16/14ナノメートル(1ナノメートルは10億分の1メートル)世代以降のフラッシュメモリー内蔵マイコンに向けて、フィン構造の立体トランジスターを採用したSG(スプリットゲート)―MONOS(金属―酸化...

ここからは有料記事になります。ログインしてご覧ください。

関連記事